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五管三合一PECVD沉积系统
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5管三合一PECVD沉积系统

  等离子化学气相沉积系统

  用途:主要用于在晶体硅太阳能电池制造中在硅片上沉积AlxOy, SiO2/SiOxNy,SixNy薄膜

  设备特点:

  配备自动舟升降,实现五管工艺舟全自动取料;

  PC全自动控制,软件界面直观,安全互锁、历史记录等,功能强大;

  采用进口的压控系统,射频率、干泵、流量计及进口气路元器件,确保设备运行的高可靠性和工艺的重复性;

  RF引入采用专利设计,直观可靠;

  成熟产品,成熟工艺;

  核心技术指标:

  片内均匀性:≤±3%;

  片间均匀性:≤±3%;

  批间均匀性:≤±3%;

  核心技术参数:

  结构形式:五管卧式热壁型

  温度使用范围:150-600ºC;

  极限真空度:优于1Pa;

  压力调节范围:±0.4Pa/50-300Pa连续可调,闭环控制;

  射频电源:进口射频电源(15KW,40KHz);

  工艺气体路数:工艺气体5路(SiH4,NH3,TMA,N2O,CH4,N2)

  温区长度及精度(150-500ºC):±2ºC/1400mm;

  温度梯度:0-30ºC/1400mm可调;

  硅片尺寸:156-166mm

  产量:432~448片/管;

  升温时间:(室温~500ºC)≤30min;