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扩散系统
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扩散炉

  摘要

  扩散炉应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,可用于2-8英寸工艺尺寸。

  产品介绍

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  扩散炉应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,可用于2-8英寸工艺尺寸。

  ■控制系统特点

  ◆ 计算机控制,数据采集非常便利,适合半导体工厂的严格管理

  ◆ 可保存多条工艺曲线,每条曲线可设置多步

  ◆ 工艺曲线的自动运行控制功能

  ◆ 自动运行中可暂停/继续运行功能

  ◆ 工艺中可强制跳到下一工艺步运行功能

  ◆ 可存储多组PID参数供系统运行调用功能

  ◆ PID参数自整定功能

  ◆ 具有自主知识产权的软件系统,良好的人机界面

  ◆ 系统故障自诊功能

  ◆ 工艺气体的程序控制功能

  ◆ 停电后断点继续运行功能等等

  ◆ 具有历史记录查询警示功能

  ◆ 具有多种故障报警及各种安全互锁保护功能

  ◆ 具有多点温度补偿

  ★ 该系统可根据用户的特殊要求增减或开发相应的功能

  ■ 主要技术指标

  ◆ 可配工艺管外径:2~8英寸

  ◆ 可配工艺管数量:1~4管/台

  ◆ 恒温区长度及精度:300~1250mm 800~1286℃±0.5℃

  ◆ 工作温度范围:400~1286℃

  ◆ 单点温度稳定性:800~1286℃ ±0.5℃/4h

  ◆ 可控升温速率:15℃/min

  ◆ 降温速率:5℃/min

  ★ 无锡正隆天基可为用户量身定制非标准产品