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LPCVD低压化学气相沉积设备2019/06/25

  低压化学气相沉积设备  设备简介:  LPCVD(低压化学气相沉积设备)  LPCVD用加热的方式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并积淀形成固定固体薄膜,目前主要使用方向为:TOPCON与POLO(POLY-SI)电池工艺技术。 ...

太阳能ALD原子层沉积设备2019/06/25

  一. 产品介绍  太阳能ALD原子层沉积是通过将气相前躯体TMA和H20(或TMA和O3脉冲交替地通入反应腔室内并在沉积基体上化学吸附反应生成沉积膜AL2O3的一种设备,主要应用到光伏PERC、TOPCON等新型工艺上,用于提高太阳能电...

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